半導体のクリーニングのためのultrapure水装置のプロセス フロー

近年、中国の科学技術の急速な開発、主要な部分のための電子産業の記述は、電子産業でまた、半導体重要な位置を占める、ultrapure水装置の流出する質をきれいにする半導体は安定して、装置操作は信頼できる。

半導体のクリーニングのためのultrapure水装置のプロセス記述

半導体のクリーニングのためのultrapure水の水質はまた厳密な条件がなければなり装置は固定して作動できる。原水は原水ポンプによって水の錆そして他の有機性物質を取除くために水が第一次前処理システムを入れるようにそれから入る残りの塩素の色を取除くために二次前処理装置に加圧され次に前処理の第三段階の後で、水の硬度を取除くために、保証フィルターは水を再度浄化し、次に更に水を扱うために微小孔のあるフィルターを通して水の余分な不純物を、および最終的にパスを取除くように逆浸透およびEDI渡す。水を満たす水条件を作りなさい。

半導体工業のultrapure水のための標準

半導体工業はまた中国の電子産業の関連した標準に続き、ある外国の水質の標準に合うべきである。現在、多くの水処理の製造業者は標準に合わなかったそして私達のultrapure水装置の流出する質はこれらの標準に合うことができ水質は安定して、により二次汚染を引き起こさない。

半導体のクリーニングのためのUltrapure水装置は監督無しの特徴を実現できる最も最近の技術、装置占める小さい区域を採用する、オートメーションの程度は高く、水質は安定して、18.2兆まで、ultrapure水装置の廃水の回復率は高い、80%までに90%以上。